特許調査

背景技術から社内技術が漏洩 　特許明細書には背景技術を記載する欄があります。背景技術には特許出願する発明の背景を記載します。背景技術に指定された書き方はありません。このため、特許公開公報を挙げてその技術的課題を記載する場合もあれば、...

　特許調査には、適合率・再現率という２つの指標があります。適合率・再現率のどちらも、特許調査の結果として、有効な特許をどれくらい集められたかを示す指標になります。適合率・再現率はお互いにトレードオフの関係にありますので、調査者は特許調査の...

　特許調査には、適合率・再現率という２つの指標があります。適合率・再現率のどちらも、特許調査の結果として、有効な特許をどれくらい集められたかを示す指標になります。適合率・再現率はお互いにトレードオフの関係にありますので、調査者は特許調査の...

　特許調査は、発明を特許出願する時や、新しい製品をリリースする時に行われる事前の調査の事です。特許調査は、その調査目的やタイミングに応じて５種類（先行技術、侵害予防、無効資料、技術動向、ＳＤＩ）の調査があります。本稿では、この中の先行技術...